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  208HR高分解能イオンスパッタリング装置は、電界放出走査電子顕微鏡の応用において遭遇する様々な試料溶射の難題に真の解決策を提供する。

  電界放出走査電子顕微鏡観察時、試料は電荷蓄積を除去し、低密度材料のコントラストを高めるために、極めて薄く、細結晶がなく、均一な膜層をめっきする必要がある。細結晶のサイズを最小限にするために、208HR一連のめっき材料を提供し、膜厚とスパッタリング条件に匹敵する制御を提供する。

  208HR分子タービンポンプ高真空システムは広範囲の操作圧力を提供し、膜層の均一性と一致性を精密に制御し、充電効果を最大限に低減することができる。高い/低サンプル室の構造設計により、ターゲットとサンプルの間の距離調整が極めて便利になった。

  MTM-20高分解能膜厚制御器の分解能は0.1nm、その作用はめっきされた薄膜の厚さを精密に制御することであり、それは特に電界放出電子顕微鏡が膜厚（0.5－3nm)を使用する必要があります。

  電界放出走査型電子顕微鏡めっきの推奨ターゲットは、

  • Pt/Pd：非導電性サンプルめっきの汎用めっき材料

  • Cr：優れた半導体サンプルのめっき材料

  • Ir：優れた真の無微結晶メッキ材料

  208HRシステムは最適な高分解能めっき効果を得るために多種の配置選択を提供し、標準的なロータポンプを配備することができ、あるいはきれいな真空を提供する油フリーの渦巻式真空ポンプを提供することができ、標準的な208HR含めるCrとPt/Pdターゲット。

  一、主な特性

  · 複数種類のめっき材料を選択可能

  · 精密な膜厚制御

  · サンプルテーブルの制御が柔軟：サンプル台に対して独立した回転、惑星式回転、傾斜制御を行うことができ、形態差の大きいサンプルにも最適なめっき効果を得ることができることを保証する。

  · 複数のサンプルシート：提供4個のサンプルホルダー、各サンプルホルダー直径32mm、最大マウント可能6個の小形品座。

  · サンプル室の幾何学的可変： サンプルチャンバジオメトリは、めっき膜の速度を調整するために使用される（1.0nm/s～0.002nm/s）

  · 広い範囲の操作圧力：独立した電力と圧力調節、アルゴンガスの圧力の大きさの範囲は0.2 - 0.005 mbar。

  · コンパクトでモダンな卓上型デザイン

  · 操作が容易である

  二、技術パラメータ

  スパッタシステム
  めっきヘッド	低電圧平面マグネトロン ターゲットの交換が速い 暗部カバーを囲む ターゲット調整遮蔽
  ターゲットざいりょう	Cr, Pt/Pd (標準) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti（オプション）
  めっきせいぎょ	マイクロプロセッサ制御 セキュリティインターロック 電流制御は真空度に依存しない デジタル化オプション電流（20，40，60 と80mA）
  サンプルチャンバサイズ	ちょつけい150mm 高さ165 - 250mm
  サンプルテーブル	非反復回転、惑星回転、手動で傾斜可能0-90° かいてんそくどちょうせい クリスタルヘッド 4個のサンプルテーブル
  アナログ計量	しんくうAtm - .001mb でんりゅう0-100mA
  制御方法	自動ガス浄化とガス排出機能 自動処理ソート 一時停止機能付きデジタルタイマ じどうくうきぬき
  膜厚制御	MTM-20高分解能膜厚制御器
  しんくうシステム
  こうぞう	分子タービン牽引ポンプとロータポンプの組み合わせ、 ロータポンプに代わる無油スクロール真空ポンプ（オプション）
  真空引き速度	0.1mb下300 l/min
  真空引き時間	1 mbar終了1 x 10-3mbar
  げんかいしんくう	1 x 10-5mbar
  卓上システム	回転翼ポンプを耐震ステージ上に配置し、全金属真空結合システム
  膜厚測定器
  MTM-20	マイクロプロセッサに基づいて、4デジタル表示、リセットボタン、6MHz結晶（寿命検査機能付き）、5次/sの更新率
  膜厚範囲	0.0 - 999.9nm
  解像度	より優る0.1nm
  みつどはんい	0.50 - 30.00gm/cm3
  補正係数範囲	0.25 - 8.00
  めっき終了範囲	膜厚0 - 999.9nm
  システム要件
  電気	100-120または200-240VAC, 50/60Hz
  しゅつりょく	550VA（最大）
  アルゴンガス	さいしょうじゅんど99.995% ちょうせいあつりょく5 - 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID接続ホース