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製品の詳細
5ワット紫外線レーザーマーキング装置の紹介
5ワット紫外線レーザマーキングマシンは電力強度の上で3ワットの紫外線レーザマーキングマシンに比べて非常に高いが、一部の材質は3ワット紫外線レーザマーキングマシンでは満足できないので、5ワット紫外線レーザマーキングマシンを選択する必要があり、この設備は355 nmの紫外線レーザを用いて開発され、このマシンは3次キャビティ内周波数逓倍技術を用いて赤外レーザと比較し、355 nm紫外光集束のスポットは非常に小さく、マーキングの効果は短波長レーザーによって直接物質の分子鎖を断ち切り、材料の機械的変形を大幅に低減し、熱変形（冷光に属する）を受けることである。主に超微細マーキング、彫刻に用いられ、特に食品、医薬包装材料のマーキング、微細孔加工、ガラス材料の高速分割及びシリコンウエハの複雑な図形切断などの応用に適しているため、5ワット紫外線レーザーマーキングマシンは高出力マルチモードレーザーダイオードによってポンプされてレーザー光を再周波数逓倍した後に発生した紫外レーザービームであり、コンピュータ制御高速走査ミラーの偏向によってレーザービームの光路を変えてレーザーマーキングを実現する.
5ワット紫外線レーザーマーキング装置の特徴
5ワット紫外線レーザーマーキングマシンは高エネルギー高密度レーザービームを用いて物質表面に彫刻破壊分子結合を行い、それを物質そのものから離脱させ、全過程に熱の発生がなく、「冷光」とも呼ばれ、そのスポットの焦点後は極めて小さいため、マーキングの効果は極めて良く、精細度は極めて高く、主にガラス業界及び要求の高い精細マーキングに広く用いられている。
5ワット紫外線レーザマーキング機パラメータ対照表
5ワット紫外線レーザマーキングマシンは電力強度の上で3ワットの紫外線レーザマーキングマシンに比べて非常に高いが、一部の材質は3ワット紫外線レーザマーキングマシンでは満足できないので、5ワット紫外線レーザマーキングマシンを選択する必要があり、この設備は355 nmの紫外線レーザを用いて開発され、このマシンは3次キャビティ内周波数逓倍技術を用いて赤外レーザと比較し、355 nm紫外光集束のスポットは非常に小さく、マーキングの効果は短波長レーザーによって直接物質の分子鎖を断ち切り、材料の機械的変形を大幅に低減し、熱変形（冷光に属する）を受けることである。主に超微細マーキング、彫刻に用いられ、特に食品、医薬包装材料のマーキング、微細孔加工、ガラス材料の高速分割及びシリコンウエハの複雑な図形切断などの応用に適しているため、5ワット紫外線レーザーマーキングマシンは高出力マルチモードレーザーダイオードによってポンプされてレーザー光を再周波数逓倍した後に発生した紫外レーザービームであり、コンピュータ制御高速走査ミラーの偏向によってレーザービームの光路を変えてレーザーマーキングを実現する.
5ワット紫外線レーザーマーキング装置の特徴
5ワット紫外線レーザーマーキングマシンは高エネルギー高密度レーザービームを用いて物質表面に彫刻破壊分子結合を行い、それを物質そのものから離脱させ、全過程に熱の発生がなく、「冷光」とも呼ばれ、そのスポットの焦点後は極めて小さいため、マーキングの効果は極めて良く、精細度は極めて高く、主にガラス業界及び要求の高い精細マーキングに広く用いられている。
5ワット紫外線レーザマーキング機パラメータ対照表
| へいきんしゅつりょく | 2W | 3W | 5W | 8W | 10W |
| レーザ波長 |
355nm |
||||
| パルス幅/Q周波数 | <20ns@50K | ||||
| ビーム品質 | M2<1.2 | M2<1.2 | M2<1.2 | M2<1.2 | M2<1.2 |
| ひょうめんばん | 110×110 mmオプション（70 x 70 mm 150 x 150 mm 200 x 200 mm）ダイナミックフォーカス振幅：300 mm*300 mm | ||||
| くりかえしせいど | ＜20μ | ||||
| 彫刻線速度 | ≤7000mm/s | ||||
| れいきゃくほうしき | ふうれい | すいれい | すいれい | すいれい | すいれい |
| 最小文字高さ | 0.2mm | 0.2mm | |||
| レーザタイプ | 355紫外パルス固体レーザ | ||||
| 全体寸法（L＊W＊H） | 800 mm×680 mm×1200 mm（場合によります） | ||||
| 電源装置 | AC 220V 50KHz | ||||
| アップグレード可能 | 電動昇降手動2次元テーブル電動2次元テーブル回転治具赤色光合焦 | ||||
5ワット紫外線レーザマーキングマシンの動作原理
5ワット紫外線レーザマーキングマシンの動作原理は実際には他のマーキングマシンの動作原理と大同小異であり、いずれも高エネルギーレーザビームを用いて2次元走査振動鏡で集束した後に物体表面を彫刻するが、紫外線レーザのビーム波長が355 nmであるため物体表面を彫刻する際に熱変化により物体に損傷を与えることはないまた、関連補助物件を配備してより大きな用途を実現することもできる
5 W紫外線レーザーマーキングマシンに2次元十字移動プラットフォームを搭載可能
5 W紫外線レーザーマーキングマシンに360度同期回転チャックを搭載可能
5ワット紫外線レーザーマーキングマシンの応用
5ワット紫外線レーザーマーキングマシンは光スポットが極めて小さく、物が紫外線吸収によく、しかも熱変化がなく、環境保護が汚染されていないため、広範に使用されている：医療機器、薬品業界、包装業、食品業、ガラス彫刻、およびフレキシブルPCB回路基板の切断、ウェハパンチ、フレキシブルセラミックスの切断、および金属部品とプラスチック部品のマーキング彫刻など
5ワット紫外線レーザマーキングマシンの生産現場
清潔で清潔な職場の生産環境、各設備は厳格な老化テストを経てから出荷できる
5 W紫外線レーザービーコンソフトウェア機能
5ワット紫外線レーザーマーキングマシンの使用上の注意事項
1.5 W紫外線レーザービーコンを使用する際には、使用中に突然電源を切らないようにしてください。これにより、コンピュータのデータが失われ、機械のハードウェア部分も破壊される可能性があります。UPS電源レギュレータを設置することをお勧めします。
2.使用環境が比較的劣悪な場合、定期的に集束レンズを無塵布で拭くには、高濃度アルコールで拭く必要があり、他の場所のレンズは拭く必要はありません。
3.常に位置を移動しないで、5ワット紫外線レーザーマーキングマシンの内部は光学デバイスで、移動位置は内部部品の緩みをもたらし、機械の正常な使用ができないことを招く
4.専門外の人はシャーシを開けてはいけません。シャーシを開ける必要があっても電源を切ってから、総電源のプラグを外してください。
5.冷水機の冷却水を定期的に交換する。
6.設備の作業時、目に永久的な傷害を与えないようにフォーカスミラーの底から上を見ることを厳禁する。
7.長時間の接触で皮膚が脱皮する現象を起こさないように、装置の動作時にレーザビームに手を触れないようにする。
3.常に位置を移動しないで、5ワット紫外線レーザーマーキングマシンの内部は光学デバイスで、移動位置は内部部品の緩みをもたらし、機械の正常な使用ができないことを招く
4.専門外の人はシャーシを開けてはいけません。シャーシを開ける必要があっても電源を切ってから、総電源のプラグを外してください。
5.冷水機の冷却水を定期的に交換する。
6.設備の作業時、目に永久的な傷害を与えないようにフォーカスミラーの底から上を見ることを厳禁する。
7.長時間の接触で皮膚が脱皮する現象を起こさないように、装置の動作時にレーザビームに手を触れないようにする。
5 W紫外線レーザーマーキングマシンのアフターサービス
5 W紫外線レーザーマーキングマシンは、オンサイトサービス、技術エンジニアのオンサイトインストール調整およびトレーニング設備の操作方法、生涯技術サポート、ソフトウェアの生涯無償アップグレード、アフター2時間応答、24時間以内の現場処理を提供します。アフターサービス電話：400-829-6628
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