
製品概要:
マイクロ波ろう付け装置、マイクロ波高温加熱技術を用いて伝統的な加熱炉の設計と結合し、そうち特殊設計、実用可能いまどきマイクロ波プロセス条件下にろう付けを行う。
適用範囲:
に適している半導体、冶金、粉体処理及び化学工業などの業界実験室及び大学実験室が真空又は流動雰囲気条件下で行う仕事はグラフェン技術分野などの材料の焼結、合成のため、この炉は高温電子レンジ及びその焼結技術に特有の「高、低、速、省」の利点のほか、用途が広く、操作が簡便で、プロセスの繰り返し性、安定性が良いという顕著な利点がある。特に新材料の開発、試験、及び少量生産に適している。
主な特徴:
①昇温速度が速く、温度場が均一で、20 min以内に室温から1000℃に上昇することができる(黒鉛で)
②一体化設計、設備と真空雰囲気セット設備の集積、安全で信頼性が高い
③専用セラミック繊維材料の炉腔と二層保温構造を採用し、炉表温度が常温熱電対測温であることを確保する
④エニックスproシステム、PLC自動制御、温度と電力はすべてインテリジェントで制御可能、タッチスクリーン操作、リアルタイム温度電力グラフ表示、手動、自動、恒温の3種類の操作モードを提供し、自由に切り替えることができる
⑤ 無段可変調整、高安定度長寿命、連続波工業級マイクロ波源を採用し、設備が連続的に安定して長時間運行できることを確保する
⑥空気路接続方式のマイクロ波フランジ接続、材料の供給が便利で、カチューシャ接続、本設備は非接触式加熱であり、材料に汚染がない
雰囲気:
複数の雰囲気(例:空気、酸素、窒素、アルゴン、弱還元性雰囲気など)を通すことができ、耐食性排気通路を採用し、加熱中に排出されたガスを迅速に排出することができる。
真空システム:連続式真空を実現可能
特殊炉型構造:
1.G20マイクロ波焼結炉はいにあるG 16ベースでアップグレードされた多目的さざ波高温炉ワーク加熱のために真空、制御可能な雰囲気などの多種の作業環境を提供することができる。特にセラミックス材料の合成と焼結、粉末冶金部品の焼結、無機材料の乾燥、熱処理、粉体焼成、化学分析における灰化処理に適している、各種固体廃棄物の分解処理実験などがある。
2.用途が広く、操作が簡便で、プロセスの重複性、安定性が良い
3.特に新材料の開発及び少量生産の使用に適している。
技術パラメータ
●製品型番:ANKS-QH11
●給電要求:220 VAC
●整機電力:3200 W
●マイクロ波周波数:2450 MHz(S級マイクロ波周波数帯)
●マイクロ波電力:3000W
●電力調整:4000 W(マイクロ波線形出力)
●調整方式:非パルス連続調整可能
●調整比:0-100
●動作温度:1200℃
●温度制御精度:±1℃
●温度測定方式:ねつでんつい
●雰囲気システム:独立ガス保護装置を設置し、窒素、酸素、不活性ガスなどによる雰囲気処理が可能
●内腔材質:航空耐高温材料(エニックス特定項目)
●高温内腔:炉空洞は316 L工業級ステンレス鋼を用いて一体成形し、3 Dマイクロ波シミュレーションによりマイクロ波の均一性を高め、6層までの保温構造
●表示方式:タッチパネル及び埋め込み型人間機械交換システム
●制御制御システム:エニックス-proシステム
●機能配置:クラウド自動保存機能、リアルタイム電力表示、リアルタイム電流表示、リアルタイム温度表示制御、リアルタイム曲線、USBクラウドデータ導出、485変換器搭載、CP接続可能、60セットのプロセス保存、各セット配置5段プロセス、新旧プロセス置換モード、多種作業モード、手動、自動、恒温、計器故障計器自動停止機能など
●保護機能:設備は超温警報、過流警報、素子自己検査、温度異常、センサ異常自動停電保護を装備する。
●カットオフ円を採用どうはかん封止構造、インダクタ式抑制器、マイクロ波を備えた漏洩防止処理の優れた国家基準(≤5mW/cm2)
●外形寸法:約650*550*950(幅*奥行き*高さ)、デスクトップ