滕州中科譜分析機器有限公司
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純ベンゼン中微量チオフェン分析ガスクロマトグラフィー
製品概要GC 2020純ベンゼン中微量チオフェン分析ガスクロマトグラフィーは滕州中科譜が開発した高感度分析機器であり、主に水素化ベンゼン企業に応用され、機器はチオフェンZに対して0.03 ppmを検出でき、感度は輸入機器に匹敵する
製品の詳細
ブランド ZKP/中科譜

【製品名】純ベンゼン中微量チオフェン分析ガスクロマトグラフィー
【研究開発背景】ベンゼンは染料、プラスチック、合成ゴム、合成樹脂、合成繊維、合成薬物、農薬などの重要な原料であり、塗料、ゴム、接着剤などの溶剤であり、燃料としてもよい。工業的には、主に石油分解とコールタールの軽油部分抽出と分留によって得られる。ベンゼンを原料としてアニリンとスチレンを生産する場合、チオール含有量は低くなければならず、そうでなければアニリンの収率とスチレン触媒に非常に大きな影響を与えることが必要である。
滕州中科譜は百回以上の試験、比較検査を経て、技術センターの技術者はガスクロマトグラフィー法によるコークス化ベンゼン中のチオフェン含有量を測定する新しい方法の開発に成功した。この方法は測定時間を3時間から現在の9分に短縮し、従業員の作業環境を改善し、検査コストを低減し、作業効率を向上させた。時間定性、ピーク面積、またはピーク高定量を維持するために、高感度火炎光度検出器を備えたGC 2020ガスクロマトグラフィーにより、ベンゼン中の微量チオフェン含有量を測定した。
【製品構成】
製品名称型式仕様及び説明
ガスクロマトグラフGC 2020 FPD、充填カラム注入システム
クロマトグラフィワークステーションN 2000デュアルチャネル(コンピュータ、プリンタの自動配置)
カラム充填カラム4*3 mm(チオフェン検出)
高純度水素発生器HK-300水素ガス流量300 ml/min
高純度空気発生器AK-2000空気流量2000 ml/min
高純度窒素鋼ボトル40 Lの窒素ガス流量300 ml/min
標準サンプル5 ml 0.1 ppmチオフェン標準サンプル

この構成は純ベンゼン中の微量チオフェン分析ガスクロマトグラフィーであり、装置はチオフェンzuiの低さに対して0.03 ppmを検出することができる

GC 2020ガスクロマトグラフィー機器の特徴:

全マイコン化ボタン操作、5.7インチ大画面13行液晶中国語表示、マンマシン対話方式、操作便利。

新しい集積デジタル電子回路は、制御精度が高く、性能が安定で信頼性があり、高精度で毎秒50回制御し、精度は0.1℃に達することができる。

大カラムボックスの体積:300*280*180、zuiは複数のカラムと100 m 0.53の毛細管カラム2本を大きく収容しています。

外国の注入口設計を導入し、注入差別を解決する、二重柱補償機能は昇温によるプログラムドリフトを解決するだけでなく、背景騒音の影響を減算することで、より低いzuiの小さな検出限界を得ることができる。

インテリジェント後扉システム、二重扉設計、無段可変出入り風量、プログラム昇/降温後のシステム安定平衡時間を短縮、加熱炉システム:(温度範囲)周囲温度+5℃〜400℃加熱炉温度平衡時間はユーザによって決定される。

3つのサンプラ、3つの検出器を同時に設置し、顧客の複雑なサンプルの分析問題を解決することができる。

断熱効果がより良い:カラムボックス、気化、測定がすべて300度の場合、外箱及び天蓋zuiホットスポットは40度しかなく、実験速度を高め、使用者の安全を保障する。

自動/手動六方注入弁、頂空注入器、熱解析注入器、分解炉、メタン転化炉などの拡張装置を選択的に組み立てることができ、特殊サンプルの分析を容易に解決することができる。

POST機能、故障表示、自動保護、瞬間停電保護、耐干渉能力が強い。

優れた設計構想:

気化室の設計*、死体積はもっと小さい、

付属品の交換が簡単:注入パッド、ライナ、分極極極、収集極、ノズルはすべて片手で交換できる、

本体の交換が便利:充填柱、毛細管注入器、TCD、FID検出器は1つのレンチだけで*取り外しができ、メンテナンスが非常に便利である、

ノズルが優れている:*耐高温石英設計、破砕しにくくかつ不活性が良く、回転シール、シールが更に*、

位置決めが合理的:*毛細管位置決めシステム、柱の取り付けの重複性と燃焼速度の一定型を有効に保証する、

柱頭注入:柱頭注入を充填し、分流差別効果を効果的に防止する。

技術パラメータ:

柱箱:

温度制御範囲:室温+5℃~399℃(0.1℃増量)

プログラマブル階数:13階

プログラマブルレート:0.1℃〜50℃(0.1℃増量)

リフト保持時間:ユーザ自身で設定可能

インジェクタ:

zuiは3つのサンプリングシステムを同時にインストールできることが多い

注入ユニット:充填柱注入システム

分流/無分流キャピラリ注入システム(ダイヤフラム清掃機能付き)

温度制御範囲:室温+5℃~399℃

検出器:

zuiは3つの検出器を同時に設置できることが多い

温度制御範囲:室温+30℃~400℃

水素火炎イオン検出器(FID):

感度:≤5×10-12g/s(n−ヘキサデカン)

ダイナミックレンジ:≧106

ベースラインノイズ:≦1×10-13A

安定時間:<20min

絶縁強度:≧1500ボルト、220 Vリーク電流≦1 mA

熱伝導検出器(TCD):

感度:S≧10000 mv.ml/mg(n−ヘキサデカン)

ダイナミックレンジ:≧106

ベースラインノイズ:≦20 uV(キャリアガス99.999の水素)

当社は実際のサンプルの分析需要に基づいて、機器に対してユーザーのサンプル需要に合った配置を行い、サンプルの実際需要を満たすためにより良い配置を行います。もし上記の配置はあなたのサンプルの需要を満たすことができないと思ったら、あなたの要求を提出することができて、会社はあなたの需要に基づいて機器を配置します

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