• 特に走査型電子顕微鏡イメージングにおける非導電性試料の高品質めっきに適しており、同時に走査型電子顕微鏡の分光分析にも使用されている。
  

  主な特徴

  lに通じをつける1個の真空ポンプを接続して、良好なメッキ炭素メッキ効果を保証することができると同時に、炭素と金属のいかなる交差汚染も発生しない。

  l高効率低圧直流マグネトロンヘッドによる冷態微細な溶射過程により、サンプル表面の損傷を回避する。

  lデジタル化された溶射電流制御はサンプル室内のアルゴン圧力の影響を受けず、均一なめっき速度と最適なめっき効果を得ることができる。

  複数の金属ターゲットを使用することができます：Pt，Au/Pd，Au，Pt/Pd（Ptターゲットは標準装備）であり、ターゲットの交換が迅速で便利である。

  l使用によるMTM-20高分解能膜厚制御器（オプション）は、設定膜厚に達した時点で溶射プロセスを停止する。

  l独自のフィードバック制御された炭素棒蒸発システムは膜厚20nm炭素棒の形状を切削したり調整したりする必要はありません。

  l使用する高純度炭素棒は、高倍条件下で高品質のめっき効果を得ることができる。

  l新しい蒸発装置を使用する：電流と電圧はマグネトロンヘッドのセンサ線を通じて監視され、蒸発源はフィードバック回路の一部として制御される。この蒸発装置は、従来の炭素棒に優れた安定性と再現性を与える。消費電力が低く、炭素棒は優れた再蒸着特性を持っている。蒸発源はパルスまたは連続的に動作することができる。

  l自動モードでは、蒸発源はプログラムで設定された電圧と時間で溶射される。手動モードでは、独自の設計によりパルスまたは連続的に動作し、ノブを介して出力電圧を制御することができます。

  技術パラメータ

  めっきシステム
  サンプルチャンバサイズ	ちょつけい120mmx 120mm高い
  ターゲットざいりょう	Auターゲットは標準で、Au:Pd, Pt, Pt:Pd（オプション）;サイズ：直径57mmx 0.1mm厚み
  サンプルテーブル	マウント可能12個SEMサンプルシート、高さ調整可能範囲は60mm 回転傾斜サンプルテーブル、回転速度：0~120rpm調整可能、傾斜角度：0~90°調整可能。回転試料台は単独キャビティ保護を有し、汚染を防止することができる。
  スパッタ制御	マイクロプロセッサ制御、セキュリティインターロック、調整可能、最大電流40mA、プログラム化デジタル制御
  スパッタヘッド	低電圧平面マグネトロン、ターゲットの交換が速く、暗部カバーを取り囲む
  アナログ計量	真空：Atm - 0.001mbar 電流：0—50mA
  厚さモニタ (オプション)	使用MTM-20高分解能厚さ制御装置（オプション）によるスパッタリングプロセスの自動終了、またはMTM-10高分解能厚さモニタ（オプション）によるスパッタリングプロセスの手動終了
  制御方法	自動ガス換気と排気機能、自動処理順序、「一時停止」制御付きデジタルタイマー（0－300s）、自動排気
  卓上システム	真空ポンプは耐震ステージ上に置くことができ、全金属集積結合システム
  カーボンめっきシステム
  サンプルチャンバサイズ		ちょつけい120 x 120mm高い
  じょうはつげん		Bradleyタイプ(6.15mm rods, [1/4"]) 高強度ステンレス鋼構造
  じょうはつせいぎょ		マイクロプロセッサによるフィードバック回路制御により、遠隔電流を行うことができる/電圧誘導、真空レベル変数に基づく安全インターロック機能、最大電流180A、オーバーフロー保護を提供
  サンプルテーブル		アプライアンス可能12個のサンプルシート、高さは30mm範囲内で調整可能
  アナログ計量		しんくう: atmos - 0.001mb;でんりゅう: 0-200A
  制御方法		自動蒸発制御、プログラムを使用して設定された電圧と時間 完全手動制御をパルスまたは連続的に行う デジタルタイマ（0－9.9s） デジタル電圧設定（0.1 to 6.0V）
  しんくうシステム
  しんくうポンプ		2段直結式高速真空ポンプ
  抽気速度		100L/MIN
  ノイズ		50dB
  げんかいしんくう		≤1 x 10-3 Torr