製品の概要

主な特徴

完全電子自動化フロー制御（AEFC，Automated Electronic Flow Control）
ネットワーク化されたデータ通信及び遠隔制御システム（LAN communication）
業界検出器設計（Advanced detector design）
すべて漢化されたキーボードとソフトウェアの操作インタフェース（Chinese version of keypad and software）
電源分配管理シャント（Patented power supply management）
過酷な環境テスト（高温高湿）（Strict environment test for QA）
精密なプログラム昇温炉の温度制御（Precise programmable oven temperature control）
独立加熱小柱箱（Separated columns oven）
解析結果繰返し精度（High reproducibility of analysis results）
強力な自己検査とエラー報告機能（Strong function of self-diagnostic）
シーケンスの自動実行が可能（Sequence Run Available）
各種バルブ構成はガス分析（Complehensive Valve Configuration for Complicated Analysis）を満たす
マイクロガス路切断技術はマルチビットクロマトグラフィー及びバックフラッシュ機能を実現する（Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.）

技術パラメータ

ちゅうおんばこ

炉心寸法：28×30×18 cm
操作温度範囲：室温より5℃〜400℃
温度設定精度：1℃
プログラム昇温最高次数：7次
最高プログラム昇温速度：120℃/min
最長メソッド実行時間：999.99 min
運転可能カラム流失補償（デュアルチャネル）

おくりぐち

にじゅうつうしんにゅうぐち
注入口タイプはオプションです：
充填カラム注入口（スペーサー付きパージ、大口径キャピラリーカラム接続可能）
キャピラリカラムスプリット/スプリットなしスプライン)
スプリット/非スプリットキャピラリカラム注入口
高精度電子圧力/流量制御
最高使用温度400°C
柱頭圧力設定範囲：0-100 psi
柱頭圧力制御設定精度：0.01 psi
総流量設定範囲：
0-1000 mL/min（ヘリウム）
0-200 mL/min（窒素）
流量設定精度：0.1 mL/min
最大シャント比：1：1000

水素火炎イオン化検出器（FID）

高精度電子流量/圧力制御
充填カラムとキャピラリーカラムの組み合わせ
最高使用温度450°C
最小検出限界：<2.5ピクセル炭素/秒
ダイナミック線形範囲：107（+10%）
データ収集頻度：最高100 HZ

熱伝導池検出器（TCD）

高精度電子流量/圧力制御、
充填カラムと毛細管カラム、
最高使用温度300℃、
データ収集頻度：最高100 hz、
動的線形範囲：105（±10%）、
最小検出限界：<400ピクセルプロパン/ミリリットル（ヘリウム）

電子捕捉検出器（ECD）

高精度電子流量/圧力制御
充填カラムとキャピラリーカラムの組み合わせ
最高使用温度400°C
いんせいようきょく
検出器補償ガスタイプ：5%メタン/アルゴンまたは窒素ガス
データ収集頻度：最高100 HZ
ダイナミックリニアレンジ:>5X105
最小チェックアウト制限：<0.01mCi 63Ni

窒素リン検出器（NPD）

高精度電子流量/圧力制御
充填カラムとキャピラリーカラムの組み合わせ
最高使用温度450°C
最小検出限界：<3ピコ炭素/秒
動的線形範囲：105 N、105 P
データ収集頻度：最高100 HZ
最小検出限界：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
選択性：25000：1 gN/GC、75000：1 gP/GC