ガスクロマトグラフ専用ガス清浄機上海書培実験設備有限公司が提供し、ガス浄化器は実験室のH 2、N 2、Ar、Airなどのガスを浄化処理する小型浄化装置である。高分子材料、有機合成、物理化学、元素分析、光ファイバ材料、半導体材料、無機材料、金属製錬、環境分析、食品分析及びガスクロマトグラフィーなどの実験室及びプロセス中のガス浄化に広く応用できる。
ガスクロマトグラフ専用ガス清浄機原理:
GPI-2金ガス浄化器は3つの源の独立したガス路の流れを持っている。ガス有害不純物に対して双方向二重濾過浄化処理を行う。異なる要求に応じて、三路連結使用もでき、三級深さ浄化の要求に達することができる。
ガスクロマトグラフ専用ガス清浄機選択物質の使用及び活性化:
1、変色シリカゲル:新しい変色シリカゲルを使用する前に微粒子をふるい、オーブンに入れる120度ベーキング6-8時間後、自然冷却し、保存します。
2、モレキュラーシーブ:新しいモレキュラーシーブを使用する前に微粒子をふるい、オーブンに入れる350-580度ベーキング3-4時間
3、105触媒:105触媒はパラジウムを含む酸素除去触媒であり、活性化方法は触媒を脱酸素管に入れ、360度の温度で脱水2時間、冷却後に不動態化水素ガスを触媒に通し、還元活性化1時間、酸素を含む1%のH2一度触媒を通過した後の酸素含有量は以下に下がることができる0.2ppm.
ガスクロマトグラフ専用ガス清浄機パラメータ表:
浄化物質名 |
選択物質名 |
水分(H2O) |
変色シリカゲルまたはモレキュラーシーブ |
水素ガス(H2)中の酸素(O2) |
105触媒又はモレキュラーシーブ |
二酸化炭素(CO2) |
ソーダ石綿 |
炭化水素類 |
かっせいたん |
ガスクロマトグラフ専用ガス清浄機「技術パラメータ」テーブル
しゅつりょくりゅうりょう |
0-10L/min |
にゅうりょくあつりょく |
0.46mpa |
しゅつりょくあつりょく |
0.4mpa |
さいだいたいあつ |
0.6mpa |
周囲温度 |
5--40℃ |
相対湿度 |
<85% |
外形寸法 |
295×195×110mm(L×W×H) |
じゅうりょう |
5kg |