DWL 200/400はハイデルベルク社がDWL 66に続いて開発したレーザー直写装置であり、ハイデルベルクレーザー直写装置DWL 200/400は光描画速度が速いだけでなく、その精度が高く、品質がより良く、同時に光描画加工面積が16「X 16」であり、半導体、マイクロイメージング技術及び光学分野においても広く使用されている。