mda-400紫外線リソグラフィ装置-グローバルベンダー

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mda-400紫外線リソグラフィ装置

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製品の詳細

製品名：

mda-400紫外線リソグラフィ装置

製品紹介：

ブランド：韓国MIDAS

モデル：MDA-400M

産地：韓国

価格：面談

製品の説明：

別名：マスクアライメント露光機、露光システム、リソグラフィシステム、リソグラフィ機、紫外露光機など、
MIDASは世界をリードする半導体装置サプライヤーであり、長年にわたってマスクアライメントリソグラフィ機とホモジナイザの研究開発と生産に力を入れており、半導体、マイクロエレクトロニクス、バイオデバイス、ナノテクノロジー分野に広く応用されている。同社は現在、世界で最も早くフォトリソグラフィを商品化した会社の一つであり、豊富な技術研究開発力と設備生産能力を持っている。また、その設備は多くの有名企業、研究開発センター、研究所、大学に採用されている。優れた技術、優れた技術、良好なサービスで、ユーザーの愛顧を勝ち取った。
この型番のフォトリソグラフィ機はすべての輸入設備の中で性能価格比が最も高い型番で、欧米ブランドのアライメント精度を達成し、CCDディスプレイのアライメントは更に便利で、液晶タッチパネルの操作は、オスロ紫外線ランプを採用し、寿命が長い。機械全体の効果は丈夫で長持ちする。

主な特徴：
-光源の強度を制御することができます。
−紫外露光、深紫外露光（Option）、
-システム制御：手動、半自動、全自動制御、
-露出モード：真空接触モード（接触力調整可能）、Proximity接近モード、投影モード、
-真空吸盤の範囲は調整可能、
−特許技術：両面整列可能、両面リソグラフィ可能、IRモードとCCDモードを有する
- 2つのCCD顕微鏡システム、最大1000倍拡大、ディスプレイは直接調整し、従来の接眼レンズのアライメントよりも便利で迅速で、操作しやすい。
-特殊なベースチャックをカスタマイズできます。
-くさび補償機能があります。

技術パラメータ：
-基板サイズ：4、6、8、12、25インチ、その他のサイズはカスタマイズ可能、
-ビーム均一性：<±3%；
−露光時間調整可能範囲：0.1 to 999.9秒、
-アライメント精度：0.6-1ミクロン
-解像度：1ミクロン、
-ビーム出力強度：15-25 mW/cm 2、

	プロジェクト	技術仕様
露出システム（Exposure System） MDA-400 Mタイプ	こうげんでんりょく	350W UV Exposure Light source with Power supply
	解像度	- Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer ) - Hard Contact : 1um - Soft contact : 2um - 20um Proximity: 5um
	最大ビームサイズ	4.25×4.25 inch
	ビーム均一性	≤ ±3% (4inch standard)
	ビーム強度	15~20mW/cm² (365nm Intensity)
	露光時間調整可能	0.1 to 999.9 sec
アラインメントシステム（Alignment System）	アライメント精度	1um
	アラインメントクリアランス	手動調整（デジタル表示）
	リソグラフィモード	真空、ハードコンタクト、ソフトコンタクト、プログレッシブ（Proximity）
	チャック水平調整	ウェッジエラー補償Wedge Error Compensation
	真空チャック移動	X, Y: 10 mm, Theta: ±5°
	Z方向移動範囲	10mm
	近接調整ステップ	1um
サンプル（Sample）	基底Substrate	2, 3, 4 inch
サンプル（Sample）	マスクプレート寸法	4 and 5 inch
Utilities	真空Vacuum	<-200 mbar（システムは真空ポンプを含む）
	圧縮空気CDA	> 5Kg/cm²
	窒素ガスN 2	>3Kg/cm²
	電源Electricity	220V, 15A, 1Phase
	顕微鏡及びディスプレイ CCD and Monitor	Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;

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