酸化インジウムスズ光電応用ナノスケール分散機
ITO導電性スラリーナノホモジナイザー、itoナノホモジナイザーは、定、回転子狭窄の間隙に強い機械及び液力せん断、遠心押出、液層摩擦、衝突引裂と乱流などの総合作用を受け、懸濁液(固/液)を形成する
ito ITOはN型酸化物半導体−酸化インジウムスズであり、ITO薄膜すなわちインジウムスズ酸化物半導体透明導電膜であり、通常2つの性能指標がある:抵抗率と透光率はナノインジウムスズ金属酸化物として、良好な導電性と透明性を持ち、人体に有害な電子放射、紫外線及び遠赤外線を遮断することができる。そのため、インジウムスズ酸化物は通常、ガラス、プラスチック及び電子ディスプレイに塗布され、透明導電性フィルムとして使用され、同時に人体に有害な電子放射及び紫外線、赤外線を減少させる。
酸化物導電膜では、SnをドープしたIn 2 O 3(ITO)膜の透過率zuiが高く、導電性*が高く、透過率が90%以上の酸液中で微細なパターンをエッチングしやすい。ITOにおけるその光透過率と抵抗値はそれぞれIn 2 O 3とSnO 2の比によって制御され、通常SnO 2:In2O3=1:9。酸化スズの厚さが200を超えると、通常は透明度が十分ではないため、導電性は良いが
導電性スラリーに対する要求、第yiは分散均一性であり、スラリーの分散が不均一で、深刻な凝集現象があれば、電池の電気化学性能が影響を受け、例えば導電剤の分布が不均一であれば、電極が充放電過程中に、各所の導電率が異なると異なる電気化学反応が発生し、負極に複雑なSEI膜が発生する可能性があり、可逆容量が減少し、局所的な過充放電現象を伴うか、リチウム金属が析出する可能性があり、安全上の危険性がある、接着剤の分布が不均一で、粒子間、粒子と集流体間の接着力が大きすぎて小さすぎる場合があり、小さすぎる部位の電極内部抵抗が大きく、さらに材料が落ち、zuiは最終的に電池容量全体の発揮に影響を与える。第二に、スラリーは良好な沈降安定性とレオロジー特性を持ち、極片塗布技術の要求を満たし、厚さの均一なコーティングを得る必要があり、電池極片の心の厚さと縁部の厚さができるだけ一致していることが要求され、これは導電性スラリー塗布技術の難点である。
研磨分散機はコロイド研磨分散機を組み合わせたハイテク製品である。
1段目は、精細度が上昇した3段の鋸歯突起と溝によって形成されている。ステータは、必要なロータ間距離に無制限に調整することができる。拡張された流体乱流の下で。溝は各段の口で方向を変えることができる。
第2段はトランスステータで構成されている。分散ヘッドの設計は、粘度の異なる物質および粒子粒径の必要性にも優れている。オンライン式の固定子と回転子(乳化ヘッド)とバッチ式機械の作業ヘッド設計の違いは主に輸送性に対する要求の面で、特に注意を喚起しなければならないのは:粗精度、中精度、細精度とその他のいくつかの作業ヘッドタイプの間の違いは指定回転子歯の配列だけではなく、もう一つ重要な違いは異なる作業ヘッドの幾何学的特徴が異なることである。スロット幅およびその他の幾何学的特徴は、ステータおよびロータヘッドの異なる機能を変化させることができる。
以下にモデル表を参考にしてください。
モデル |
ひょうじゅんりゅうりょう L/H |
しゅつりょくかいてんそくど rpm |
ひょうじゅんせんそくど m/s |
モータパワー KW |
いりぐちすんぽう |
出口寸法 |
XMD2000/4 |
400 |
18000 |
44 |
4 |
DN25 |
DN15 |
XMD2000/5 |
1500 |
10500 |
44 |
11 |
DN40 |
DN32 |
XMD2000/10 |
4000 |
7200 |
44 |
22 |
DN80 |
DN65 |
XMD2000/20 |
10000 |
4900 |
44 |
45 |
DN80 |
DN65 |
XMD2000/30 |
20000 |
2850 |
44 |
90 |
DN150 |
DN125 |
XMD2000/50 |
60000 |
1100 |
44 |
160 |
DN200 |
DN150 |
酸化インジウムスズ光電応用ナノスケール分散機