福芯科技(香港)有限公司
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Photomask clean洗浄機
Photomask clean洗浄機
製品の詳細

最大適応正方形基板サイズ:8×8 inch基板用途:マスク版表面汚染物質の除去に使用できる。
洗浄方式:モーターがクランプ機構を通じてマスク板を遠心式回転に動かす。
配合常圧水洗浄
高圧水洗浄
メガソニックパージ
ブラシ(Brush)洗浄
有機溶剤洗浄等の方式さよう:そのうち0.5ミクロン以上の粒子の除去率は100%に近い。
さらに小さい粒子除去率顧客の要求に応じて技術指標を提供することができる。
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