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製品の詳細
サンプル表面の改質から洗浄までを行う小型デスクトッププラズマ洗浄機
用途
・高分子材料表面の官能基付与→接着性、密着性向上。過酸化反応により表面に−OHが生成し、＞C＝O，−COOHなどの官能基（微量の水分及び二酸化炭素影響）。同様に窒素プラズマ中では、窒素原子が表面に吸収され、−NH 2などの官能基が生成される。
・シリコンウエハエッチング。
・材料表面改質（金属、ポリマー、フィルム、セラミックスなど）。
・アスベスト前処理（膜ろ過アッシング）。
・電子機器からバイオ市場へ。
●低温灰化（高分子材料、石炭、食品など）。
・ガラスとPDMSボードを用いてPDMSチップを貼り付ける。
●表面有機物除去
特徴
・RFが200 Wの高性能出力タイプ（PR 200）。
●コンパクトサイズのデスクトップなので、小さな場所にも設置できます。
●同期、自動同調、操作が簡単（PR 200）。
●プラズマ反応器（アッシング装置）（PR 200）。
●同期、自動同調（PR 200）。
はんのうチャンバ
〔例〕アスベスト分析前処理
仕様
用途
・高分子材料表面の官能基付与→接着性、密着性向上。過酸化反応により表面に−OHが生成し、＞C＝O，−COOHなどの官能基（微量の水分及び二酸化炭素影響）。同様に窒素プラズマ中では、窒素原子が表面に吸収され、−NH 2などの官能基が生成される。
・シリコンウエハエッチング。
・材料表面改質（金属、ポリマー、フィルム、セラミックスなど）。
・アスベスト前処理（膜ろ過アッシング）。
・電子機器からバイオ市場へ。
●低温灰化（高分子材料、石炭、食品など）。
・ガラスとPDMSボードを用いてPDMSチップを貼り付ける。
●表面有機物除去
特徴
・RFが200 Wの高性能出力タイプ（PR 200）。
●コンパクトサイズのデスクトップなので、小さな場所にも設置できます。
●同期、自動同調、操作が簡単（PR 200）。
●プラズマ反応器（アッシング装置）（PR 200）。
●同期、自動同調（PR 200）。
はんのうチャンバ
〔例〕アスベスト分析前処理
仕様
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モデル |
PR200 |
PR300 |
PR301 |
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パターン＃パターン＃ |
DPモード、バケット型 |
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制御部 |
高周波出力 |
Max300W |
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しゅうはすう |
13.56MHz |
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どうちょうほうしき |
手動2軸シンクロ方式 |
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はんのう部 |
はんのうチャンバ |
耐熱ガラスΦ100×160 mm |
超硬質ガラスΦ64×160 mm×3室 |
耐熱ガラスΦ118×160 mm |
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はんのうガス |
1系統（酸素）流量計 |
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せいぎょ |
しゅどうみっぺいべん |
自動減圧、自動密閉弁 |
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配管マテリアル |
ステンレス鋼、テフロン、銅、銅合金 |
ステンレス、テフロン |
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外形寸法 |
W350×D400×H500mm |
W438×D520×H556mm |
W438×D520×H630mm |
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じゅうりょう |
約10 kg |
約36 kg |
約34 kg |
|
|
電源装置 |
AC100V 15A |
AC100V 7A |
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