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製品の詳細
経済的、プラズマ化ガスの活性作用による処理対象表面の改質、洗浄
特徴
・経済的なプラズマ洗浄機。
・簡単なプラズマ処理操作。
・高周波使用申請不要。
期待できる応用例
＜クリーニング＞
・有機膜の除去（油、ワックスなどの有機膜）。
・電子部品、光学部品及び微小部品の洗浄、めっき、コーティング前処理。
・細菌の消毒等（酸素ラジカルによる細胞膜のエッチング又は紫外線による消毒）。
＜表面改質＞
・高分子材料表面の官能基付与→接着性、密着性向上。酸化反応により表面に−OHが生成し、＞C＝O，−COOH等の官能基（微量の水分及び二酸化炭素影響）、
・電子部品、光学部品及び微小部品の洗浄、めっき、コーティング前処理。
・細菌の消毒等（酸素ラジカルによる細胞膜のエッチング又は紫外線による消毒）。同様に、窒素プラズマの場合、表面に窒素原子を吸い上げて−NH 2官能基を生成する。
・各種ポリマーの接着性の向上及び医科歯科材料の生体適合性の向上等。
・シャーレを処理することにより、その上に培地などを均一に塗布することができる。
＜エッチング＞
・有機高分子材料のエッチング。有機高分子酸素がエッチングガスとなる場合には、エッチング防止剤のエッチングを行うことができる。
●種子の発芽促進などの実験。
仕様
特徴
・経済的なプラズマ洗浄機。
・簡単なプラズマ処理操作。
・高周波使用申請不要。
期待できる応用例
＜クリーニング＞
・有機膜の除去（油、ワックスなどの有機膜）。
・電子部品、光学部品及び微小部品の洗浄、めっき、コーティング前処理。
・細菌の消毒等（酸素ラジカルによる細胞膜のエッチング又は紫外線による消毒）。
＜表面改質＞
・高分子材料表面の官能基付与→接着性、密着性向上。酸化反応により表面に−OHが生成し、＞C＝O，−COOH等の官能基（微量の水分及び二酸化炭素影響）、
・電子部品、光学部品及び微小部品の洗浄、めっき、コーティング前処理。
・細菌の消毒等（酸素ラジカルによる細胞膜のエッチング又は紫外線による消毒）。同様に、窒素プラズマの場合、表面に窒素原子を吸い上げて−NH 2官能基を生成する。
・各種ポリマーの接着性の向上及び医科歯科材料の生体適合性の向上等。
・シャーレを処理することにより、その上に培地などを均一に塗布することができる。
＜エッチング＞
・有機高分子材料のエッチング。有機高分子酸素がエッチングガスとなる場合には、エッチング防止剤のエッチングを行うことができる。
●種子の発芽促進などの実験。
仕様
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モデル |
PM100 |
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プラズマ発生源 |
低周波高電圧電源、出力約100 W、周波数60 KHz、出力電圧10 kV |
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モータ構造 |
容量型2分割 |
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ガス流量計 |
酸素用、流量30～300 mL/min |
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真空調整バルブ |
真空引き用、大気戻し用 |
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反応チャンバ寸法 |
内径100 mm×深さ最大約200 mm |
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外形寸法（幅×深さ×高さmm） |
310×300×448 |
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電源50/60 Hz |
AC100V 10A（真空ポンプMax 7 Aを含む） |
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真空ポンプインタフェース |
外径Φ6.35 mm（推奨真空ポンプ排気速度30 L/min） |
|
ガスインタフェース |
外径Φ6.35 m |
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