電子半導体業界の水質基準：
我が社の電子級超純水設備の出水水質は完全に米国ASTM純水水質基準、我が国の電子工業部の電子級水質技術基準（18 MΩ.cm、15 MΩ.cm、10 MΩ.cm、2 MΩ.cm、0.5 MΩ.cmの5級基準）、我が国の電子工業部の高純水水質試行基準、米国の半導体工業用純水指標、日本集積回路水質基準、国内外の大規模集積回路水質基準に符合する。

電子工業の水質に対する要求：
マイクロエレクトロニクス工業、大規模、超大規模集積回路は大量の高純水、超純水で半製品、完成品を洗浄する必要がある。集積回路の集積度が高いほど水質に対する要求も高くなり、これも超純水処理技術及び製品の簡易性、自動化程度、生産の連続性、持続性などに対してより厳しい要求を提出した。

用途：
☆半導体材料、デバイス、プリント基板、集積回路、
☆超純材料と超純化学試薬、
☆実験室と中試運転室、
☆自動車、家電の表面研磨処理、
☆光電製品、
☆その他のハイテクマイクロ製品、

典型的な電子級超純水製造技術：
☆前処理---逆浸透---水タンク---陽床---陰床---混合床---純水タンク---純水ポンプ---紫外線殺菌器---精製混合床---微孔膜フィルタ---水オブジェクト
☆前処理----一級逆浸透----pH調整装置----中間水タンク----二級逆浸透----純水タンク----純水ポンプ----紫外線殺菌器---微孔膜フィルタ----水被写体
☆前処理---二次逆浸透---中間水タンク---ポンプ---エディ装置---純水タンク---純水ポンプ---紫外線殺菌器---微孔膜フィルタ---用水対象の新技術
☆前処理---二次逆浸透---中間水タンク---ポンプ---エディ装置---純水タンク---純水ポンプ---紫外線殺菌器---研磨混合機---TOC分解器---微孔膜フィルタ---用水対象

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