ナノインプリント技術は伝統的なリソグラフィが特徴サイズの減少過程における難題を突破し、解像度が高く、低コスト、高収率の特徴を持っている。自1995年に提案されて以来、ナノインプリントは14年の発展を経て、多種のインプリント技術を発展させ、半導体製造、mems、バイオチップ、生物医学などの分野では、人間を変える10大技術の一つとされている。
NILプレスの基本的な考え方はテンプレートを通じて、図形を対応する基板上に転移させることであり、転移の媒介は通常薄いポリマー膜であり、熱圧や照射などの方法で構造を硬化させて転移の図形を保持する。プロセス全体には、インプリントとグラフィックス転送の2つのプロセスが含まれます。インプリント方法によっては、NILは主に熱可塑（Hot embossing）、紫外線硬化UV、マイクロコンタクト（Micro contact printing、uCP）の3種類のフォトリソグラフィ技術に分けることができる。

二、 機能

l主な機能

ナノインプリント機の主な機能は、パターンを対応する基板上に転送することであり、転送された媒体は通常薄いポリマー膜であり、熱プレスや照射などの方法で構造を硬化させて転送されたパターンを保持する。インプリント技術は主に以下の2種類に分けられる：

熱圧：まず、基板上に熱可塑性高分子材料（例えば、PMMA）。昇温し、この熱可塑性材料のガラス転移温度Tg（Glass transisition temperature）の上に達する。熱可塑性材料は高弾性状態で、ナノスケールの金型を上に押し、適切な圧力を加えると、熱可塑性材料は金型中のキャビティを充填し、プレスプロセスが終了すると、温度が低下して熱可塑性材料を硬化させ、金型との重なり合う図形を得る。その後、金型を除去し、残留ポリマーを除去するために各相エッチングを行った。次に図形変換を行います。パターン転移は、エッチングまたはリフトオフの方法を採用することができる。エッチング技術は熱可塑性材料をマスクとし、その下の基板を異方性エッチングし、対応するパターンを得る。リフトオフプロセスはまず表面に金属をめっきし、その後有機溶媒でポリマーを溶解し、それに伴い熱可塑性材料上の金属もリフトオフされ、基板上にマスクとして金属があり、その後エッチングを行ってパターンを得る。

紫外線インプリント：熱プレス印刷における熱変形の欠点を改善するため、トクサス大学のC.G.willsonとS.v.Sreenivasanはステップフラッシュインプリント（Step-Flash Imprint Lithography）を開発し、このプロセスでは紫外線に対して透明な石英ガラス（ハードモード）またはPDMS（ソフトモード）を用い、フォトレジストは低粘度、光硬化のモノマー溶液を用いた。まず低粘度のモノマー溶液をインプリントする基板上に滴下し、マイクロ電子技術を結合して、フィルムの堆積はスピンゲル被覆の方法を採用して、低い圧力でテンプレートをウエハ上に押して、液状を分散させてテンプレート中のキャビティを充填することができる。金型を透過した紫外線露光は、インプリント領域のポリマーの重合及び硬化成形を促進する。最後に残留層をエッチングし、パターン転移を行い、高深度アスペクト比の構造を得た。最後の離型と図形転移プロセスは熱プレスプロセスと類似している。

技術的特徴

★ホストは：真空システム、温度制御システム、圧力制御システム、水冷システム、PLCコントロール

システム、ソフトウェア操作インタフェース、紫外光源、片面電磁加熱システム

装置の最大インプリントサイズ：4 インチです。

装置は熱インプリント、紫外線露光インプリントを実現できる

★最大圧力：8bar（コンプレッサー）、20bar（外接超清浄室ガス源）

温度範囲：室温から 250 摂氏度

紫外線光源タイプ：高圧水銀ランプ：電力：400W、主波長：365nm。

★設備の真空度：10 パ。

★設備はランダムに科学研究の需要に応じて全シリーズのナノインプリントゴムを提供することができ、以下を含む：

ホットプレスゴム、紫外光硬化ゴム

深浸食型インプリントゴム、リフト型（Lift-Off）インプリントゴム

ラピッドテンプレート作製材料、各種テンプレート付着防止剤、基板粘着付与剤など

★設備がランダムに科学研究の需要に応じてカスタムナノインプリントテンプレートを提供することができ、以下を含む：周期400nmの4インチ格子テンプレートニッケルテンプレートSFP® & Hybrid Mold®ソフトテンプレート

支もち20nm解像度と曲面のインプリント、そして文献技術の支持を提供し、

★自動離型、電磁加熱機能をサポート

国内外より大きい 10 個人の顧客

★プロセス：

ナノインプリントゴムのスピンコーティングプロセスのサポート

ナノインプリントテンプレートの接着防止プロセスをサポートし、離型接着剤の影響を回避する

ナノインプリント機のパラメータ調整

PDMSを含むソフトテンプレートプロセステンプレート、SFPおよびHybrid Moldプロセス

ICPエッチングプロセス

フレキシブルポリマー基板のインプリントプロセス、Nickel Templateニッケル金属鋳型ホットプレスPET、PMMAなど

リフトオフ（Lift-off）プロセスサポート、加工金属構造

ナノインプリント特性化技術

押印技術の研究開発指導の更新、文献サポート

ぎじゅつりょく

この装置の発明者は2001年から2003年にかけて、ナノインプリント技術の発明者であり、米プリンストン大学StephenY.Chou教授のナノ構造実験室は研究アシスタントとして3年間の研究活動を行い、紫外光硬化ナノインプリント技術と材料を発展させ、ナノインプリント技術の発展に重要な貢献をした。2004年に材料科学と工学系に加入した後、引き続きナノマイクロ加工技術とナノインプリント技術をめぐって研究活動を展開し、数種類の新型ナノインプリント材料を研究開発し、新型高分子インプリントテンプレートを発展させ、曲面納メートルインプリント技術、利用する863課題「紫外光硬化と熱圧両用ナノインプリント装置の開発と応用」プロジェクトの支持、紫外光硬化と熱圧機能両用ナノインプリント装置の開発に成功し、現在は製品となり、南京大学、北京航空航天大学、国防科学技術大学、黒竜江大学、中国科学院深セン研究院など多くの大学と科学研究機関に採用され、自主知的財産権を持つナノインプリントコア技術を形成し、多くの中国専用と米国専用を申請し、獲得し、技術水準は現在の国際当該分野の最先端レベルと同期している。