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イオンビームエッチング/堆積システム
イオンビームエッチング/堆積システム
製品の詳細

EIS-200はElionixが発売した電子サイクロトロン共鳴技術(ECR)に基づく小型イオンビームエッチングシステムであり、特に科学研究用イオンビームエッチング、薄化、洗浄、堆積などに適している。




EIS-200原理:




ECR技術を利用して高エネルギーAr+イオンビームを生成し、Ar+イオンビームは電界加速によりサンプル表面に到達し、サンプルに物理的な衝撃を与えてエッチング作用を達成する。

EIS-200次の利点があります。

159は方向性がよく、異方性があり、急勾配が高く、側面エッチングが少ない

159分解能が高い

159はエッチング材料に制限されず、石英などの材料をエッチングすることができる

159制御可能エッチングTaperかく

Ÿ

多様な実験条件を設定できるŸNPD(ナノパターン成膜ユニット



)


オプション(下図)

主な機能

ナノスケールパターンエッチング

高深アスペクト比エッチング

イオンビーム堆積


表面クリーニング


イオンげんすい

ぎじゅつりょく

適用#テキヨウ#ナノサイズパターンエッチング、高深度幅比エッチング、表面洗浄、イオン低減など



ŸSiO2on Si substrate

ŸDiamond




Substrate(ダイヤモンド)




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